Estudio teórico y experimental de la característica iónica de plasmas dc

Laburpena

La física del plasma es un campo de gran interés actual en la industria y en la ingeniería de los materiales. El plasma se utiliza como medio para depositar películas delgadas en superficies, para el grabado y, en general, para la preparación de superficies con técnicas como el Etching o el PACVD (Plasma Assisted Chemical Vapour Deposition) que consiguen características específicas de las superficies. Para controlar los procesos industriales que utilizan el plasma como soporte, es imprescindible disponer de técnicas de diagnosis que permitan conocer las características del plasma. Uno de los métodos más adecuado para este fin es el uso de sondas electrostáticas de Langmuir, que permite medir los parámetros que caracterizan el plasma localmente. El problema que se plantea es que en este tipo de plasmas, la temperatura de los iones positivos es comparable a la de los electrones, no pudiéndose aplicar los modelos clásicos de vainas iónicas, como el de Allen, Boyd y Reynolds (ABR). En este sentido, hemos modificado los modelos teóricos de vainas iónicas para considerar la temperatura de los iones positivos. Mediante el desarrollo de la tesis doctoral, se ha diseñado un dispositivo experimenta y un muevo método de medida que permita contrastar los modelos teóricos, para poder desarrollar métodos de diagnosis aplicables a los plasmas industriales.